1.一种磁控溅射铁磁性靶材的装置，包括：阴极基座、周边永磁体、中心永磁体，周边永磁体、中心永磁体位于阴极基座的下部，周边永磁体位于中心永磁体外侧，其特征在于，还包括：耐高温绝缘保护罩、中心永磁柱、环状磁性靶材，阴极基座、周边永磁体、中心永磁体、耐高温绝缘保护罩、环状磁性靶材位于屏蔽罩中，环状磁性靶材利用固定圈固定在阴极基座上；耐高温绝缘保护罩、中心永磁柱、环状磁性靶材位于阴极基座上部，中心永磁柱位于耐高温绝缘保护罩内部，耐高温绝缘保护罩位于环状磁性靶材内侧，中心永磁柱与耐高温绝缘保护罩留有间隙，耐高温绝缘保护罩的外侧面与环状磁性靶材的內侧面相贴合；中心永磁柱与中心永磁体的磁极方向相同，中心永磁柱的下表面与阴极基座的上表面依靠磁体产生的引力贴合在一起，中心永磁柱位于阴极基座的几何中心；环状磁性靶材的下表面与阴极基座的上表面依靠磁体产生的引力贴合在一起，环状磁性靶材位于阴极基座的几何中心处；耐高温绝缘保护罩位于阴极基座的几何中心处，下表面与阴极基座上表面贴合在一起；环状磁性靶材表面磁感应强度水平分量为0.02-0.10T之间。

2.如权利要求1所述的磁控溅射铁磁性靶材的装置，其特征在于，环状磁性靶材为铁磁性或亚铁磁性的靶材。

3.如权利要求1所述的磁控溅射铁磁性靶材的装置，其特征在于，耐高温绝缘保护罩采用不导磁、绝缘、耐高温材料。

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