1.一种可调节式低温等离子反应釜，包括超净工作台(1)，其特征在于：所述超净工作台(1)的内部设置有等离子反应室(2)，所述超净工作台(1)的等离子反应室(2)中设置有芒刺板组件，所述芒刺板组件包括绝缘边框(5)、第一滑杆(6)和第二滑杆(7)，所述绝缘边框(5)设置在超净工作台(1)的等离子反应室(2)中，所述第一滑杆(6)和所述第二滑杆(7)均滑动连接在等离子反应室(2)的壁体上，所述绝缘边框(5)的表面设置有升降机构，所述升降机构包括调距套筒(11)、调距螺杆(12)、调距旋钮(13)和第一连接架(14)，所述调距套筒(11)内嵌固定在超净工作台(1)的台面上，所述调距螺杆(12)穿设在调距套筒(11)的内部，所述第一连接架(14)设置在绝缘边框(5)与调距螺杆(12)之间，一个所述调距套筒(11)的表面开设有调节口，所述调距套筒(11)的调节口内转动连接有调距旋钮(13)。

2.根据权利要求1所述的一种可调节式低温等离子反应釜，其特征在于：所述第一滑杆(6)和所述第二滑杆(7)均位于绝缘边框(5)的内部均匀分布，所述第一滑杆(6)位于第二滑杆(7)的上方分布，且第一滑杆(6)与第二滑杆(7)的投影呈十字形。

3.根据权利要求2所述的一种可调节式低温等离子反应釜，其特征在于：所述第一滑杆(6)和所述第二滑杆(7)的两端均固定有调节滑块(8)，所述绝缘边框(5)的一侧内壁开设有与调节滑块(8)滑动匹配的第一调节槽(9)，所述绝缘边框(5)的另一侧内壁开设有与调节滑块(8)滑动匹配的第二调节槽(10)。

4.根据权利要求3所述的一种可调节式低温等离子反应釜，其特征在于：所述第一连接架(14)的上端固定在调距螺杆(12)伸出调距套筒(11)的一端，所述第一连接架(14)的下端固定在绝缘边框(5)的上端面处，另一个所述调距套筒(11)的内部滑动穿设有引导滑臂(16)，所述引导滑臂(16)的上端固定有第二连接架(17)，所述第二连接架(17)的下端固定在绝缘边框(5)的上端面处。

5.根据权利要求4所述的一种可调节式低温等离子反应釜，其特征在于：所述调距套筒(11)和所述引导滑臂(16)的下端均固定有引导滑块(15)，所述引导滑块(15)滑动连接在调距套筒(11)的内腔中，所述调距旋钮(13)与调距螺杆(12)螺纹连接。

6.根据权利要求5所述的一种可调节式低温等离子反应釜，其特征在于：所述超净工作台(1)的底部固定有抬高支腿(3)，所述抬高支腿(3)之间的固定板上设置有高压电源(4)，所述等离子反应室(2)的内底壁设置有负极板，所述第一滑杆(6)与第二滑杆(7)的交叉点处悬挂有芒刺针(18)。

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