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基于双光路同步相移干涉的螺旋曲面形状误差的测量方法
专利类型:
申请号/专利号:
CN202011069823.1
申请人(专利权人):
王晛
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
45000元
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摘要详情
技术摘要
权利要求书
技术附图
交易流程
委托经理人
本发明公开了一种基于双光路同步相移干涉的螺旋曲面形状误差的测量方法,沿测量光路设置有前光楔、后光楔;沿扫描测量光路设置有结构光传感器,前光楔与后光楔之间放置被测物体。将结构光传感器引入干涉测量装置中,投射的结构光通过在测量过程中与被测物表面的相对运动,结合干涉测量数据,使得在对大螺旋角复杂螺旋曲面进行测量时可以保证全场测量。本发明的测量方法将空间相移技术引入到干涉测量装置中,通过单次测量拍摄能够得到多张移相干涉图,简化了操作流程步骤,提升了装置的抗干扰能力。
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