本发明公开了一种超精细纳米多孔铜膜的制备方法，包括具体以下步骤，步骤1，切割硅片；步骤2，清洗基片，设置铜靶材和铝靶材的溅射电流和溅射电压，预溅射5mins，对基片进行清洗；步骤3，制备合金前驱体，用铜靶材和铝靶材的溅射，控制薄膜材料中铜铝的原子比在25％～35％：65％～75％，溅制得合金前驱体；步骤4，腐蚀合金前驱体，将制备出来的合金前驱体放在NaOH溶液或H2SO4溶液中腐蚀后放入去离子水中，除去离子杂质，即可制备出纳米多孔铜薄膜。本发明采用的磁控溅射制备合金薄膜，制备工艺简单，成本低，薄膜尺寸可控，脱合金方法操作简单，反应稳定，实用性强，制备出的纳米多孔铜韧带连续，尺寸小，孔径均匀。
