政策资讯

一种具有双层薄n基区的碳化硅光触发晶闸管及制作方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201710711313.1
申请人(专利权人):
蒲红斌
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
45000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明公开了一种具有双层薄n基区的碳化硅光触发晶闸管,包括SiC衬底,在SiC衬底之上依次制作有第一外延层、第二外延层、第三外延层、第四外延层、第五外延层、第六外延层,第六外延层分为多个凸台;在第三外延层上部镶嵌有结终端,并且结终端位于第四外延层和第五外延层的末端之外;还包括绝缘介质薄膜,绝缘介质薄膜覆盖在各个凸台侧壁、各个凸台之间的第五外延层表面以及结终端台面的侧壁与表面;在第六外延层的各个凸台上端面覆盖有阳极;在SiC衬底下端面覆盖有阴极。本发明还公开了该种具有双层薄n基区的碳化硅光触发晶闸管的制作方法。本发明的结构独特,器件性能优异;本发明的制作方法,便于实施。

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