政策资讯

一种一维纳米线阵列结构聚偏氟乙烯的制备方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201310246461.2
申请人(专利权人):
安宁丽
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
45000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明公开了一种一维纳米线阵列结构聚偏氟乙烯的制备方法,具体按照以下步骤实施,步骤1,制备金属电极层;步骤2,制备聚合物溶液;步骤3,旋涂聚合物层;步骤4,通过金属模具制备聚合物的预制结构;步骤5,聚合物预制结构在电场中拉伸形成纳米线阵列。直接将一维纳米线阵列结构聚偏氟乙烯制备在基底上,没有转移不便的问题,制备过程中采用电场驱动熔融聚合物流变拉伸,使材料在结构制备的过程中即获得了较好的压电性能,该工艺可用于制备俘能器和传感器的制备,解决了现有技术中直接在工作基底上制备具有压电性能的PVDF纳米线阵列,造成其转移不便和压电性能不好的问题。

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